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                        1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統

                        更新時間: 2024-03-21

                        訪問次數: 4531

                        產品報價:

                        產品簡介: 產品用途:此款CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。

                        詳細資料:

                        產品用途:

                        此款CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控

                        生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。

                         

                        產品組成:

                        CVD系統配置:

                        1.1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區)。

                        2.滑動系統分為手動、電動滑動,并配有風冷系統。

                        3.多路質量流量控制系統

                        4.真空系統(可選配中真空或高真空)

                         

                        產品特點:

                        1 控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。

                         

                        2 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統使用壽命。

                        3 (電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動,等程序完成,爐體按設定的速度滑動,因有滑動限位功能爐體不會發生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風冷系統快速降溫。

                         

                         

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